logo

Chi tiết sản phẩm

Created with Pixso. Nhà Created with Pixso. Các sản phẩm Created with Pixso.
Mục tiêu Titan
Created with Pixso.

M

M

Tên thương hiệu: LHTi
Số mẫu: Titanium Target
MOQ: 100 pieces
Giá: có thể đàm phán
Điều khoản thanh toán: L/C,D/A,D/P,T/T,Western Union,
Khả năng cung cấp: 5000 Pieces Per Month
Thông tin chi tiết
Place of Origin:
Baoji, Shaanxi, China
Chứng nhận:
ISO9001, CE, API,etc
Máy ảnh:
Bộ tứ (48MP + 8MP + 5MP + 2MP)
Va li:
có khía
DỊCH VỤ:
OEM,ODM
Hoàn thành:
Đánh bóng và sáng bóng
Loại cổ phiếu:
có thể điều chỉnh
bảng màu:
Bạc
Tính linh hoạt:
Thấp
Từ khóa:
Mục tiêu phún xạ titan
Đặc trưng:
Chronograph, Hiển thị ngày, Kim dạ quang
Độ dẫn điện:
3,1MS/m
điểm sôi:
3560 K
Sự chuyển động:
Quartz
Độ dẫn nhiệt:
21.9 W/m·K
Xử lý:
Hông
Kiểm soát chất lượng:
Kiểm tra siêu âm
Packaging Details:
All goods are packed by seaworth shipment materials or required by buyer
Supply Ability:
5000 Pieces Per Month
Làm nổi bật:

Mục tiêu phun titan tinh khiết cao

,

Mục tiêu phun titan cho ngành y tế

,

Hiển thị ngày mục tiêu Titanium Sputtering

Mô tả Sản phẩm

Mục tiêu phún xạ Titan độ tinh khiết cao Gr1 Gr2 Gr5

Mục tiêu phún xạ titan là vật liệu nguồn được sử dụng trong phún xạ từ tính để lắng đọng một lớp màng titan mỏng lên đế. Mục tiêu bị bắn phá bởi các ion trong buồng chân không và các nguyên tử titan bị bật ra sẽ lắng đọng trên bộ phận dưới dạng lớp phủ đồng nhất, độ tinh khiết cao. Vì các thiết bị hiện đại cần màng chỉ dày micron hoặc thậm chí nanomet, mục tiêu phải đặc và không có lỗ rỗng và tạp chất để màng nhất quán trên một diện tích lớn. Mục tiêu titan này được chế tạo bằng phương pháp ép đẳng tĩnh nóng (HIP) ở các loại Gr1, Gr2 và Gr5, hoàn thiện đánh bóng và sáng bóng, và được kiểm tra siêu âm trước khi giao hàng.

Thông số kỹ thuật

Sản phẩm Mục tiêu phún xạ Titan
Vật liệu Titan Gr1, Gr2, Gr5
Độ tinh khiết Độ tinh khiết cao
Quy trình HIP (ép đẳng tĩnh nóng)
Hoàn thiện Đánh bóng và sáng bóng
Dịch vụ OEM, ODM
Kiểm soát chất lượng Kiểm tra siêu âm
Ứng dụng Lớp phủ màng mỏng, điện tử, bán dẫn

Vật liệu mục tiêu có sẵn

Vật liệu Loại
Titan Gr1, Gr2, Gr5 Titan nguyên chất
TiAl Titan nhôm
TiCr Titan crom
TiCu Titan đồng
TiSi Titan silic
Zirconi, crôm, molypden Các kim loại mục tiêu khác

Tính chất vật lý

Thuộc tính Giá trị
Điểm nóng chảy 1668 °C
Điểm sôi 3560 K
Độ dẫn điện 3.1 MS/m
Độ dẫn nhiệt 21.9 W/(m·K)
Mật độ 4.51 g/cm3

Hình ảnh sản phẩm

High purity titanium sputtering target

Polished titanium sputter target Gr5

Ứng dụng

Mục tiêu phún xạ titan được sử dụng để phủ màng mỏng trong các linh kiện điện tử như điốt bán dẫn, màn hình tinh thể lỏng và phương tiện lưu trữ quang học, nơi độ dày màng chính xác kiểm soát độ dẫn điện, quản lý nhiệt và độ bền. Các màng này tăng khả năng chống ăn mòn, chống mài mòn và độ bám dính tốt hơn giữa các lớp. Vì HIP tạo ra mục tiêu đặc và đồng nhất, lớp phủ có thể được lắng đọng đều trên diện tích lớn với độ dày nhất quán, điều này quan trọng đối với sản xuất màn hình phẳng và quang học chính xác. Các hợp kim titan khác nhau và các kim loại khác có thể được cung cấp cho các yêu cầu cụ thể về độ dẫn điện, độ ổn định nhiệt và độ cứng.

Sản phẩm liên quan